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  • LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機
    LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-20A

    瀏覽量:2528

    制冷循環(huán)低溫冷凍機半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-145低溫制冷循環(huán)器
    LX-145低溫制冷循環(huán)器

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-145

    瀏覽量:6790

    低溫制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵
    LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

    更新時間:2024-01-18

    型號:LX-0250

    瀏覽量:3316

    低溫冷卻循環(huán)器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優(yōu)樂、谷輪等品牌壓縮機,性能穩(wěn)定,可持續(xù)工作,微電腦溫度控制器,溫度數(shù)字顯示,調(diào)節(jié)單位0.1度,溫度范圍5度~35度可調(diào)。
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  • 制冷循環(huán)冷水機
    制冷循環(huán)冷水機

    更新時間:2023-11-17

    型號:

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    制冷循環(huán)冷水機使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻:
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  • LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵
    LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

    更新時間:2024-01-18

    型號:LX-70

    瀏覽量:2111

    LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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  • LX-40制冷循環(huán)器
    LX-40制冷循環(huán)器

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-40

    瀏覽量:2536

    LX-40制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-25制冷循環(huán)器
    LX-25制冷循環(huán)器

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-25

    瀏覽量:3380

    LX-25制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-10制冷循環(huán)器
    LX-10制冷循環(huán)器

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-10

    瀏覽量:6549

    LX-10制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。LX-10產(chǎn)品概述節(jié)省水資源,可以使用水兌乙二醇混合液進行循環(huán)制冷,節(jié)約資源;嚴(yán)密的循環(huán)管路設(shè)計,防止循環(huán)水污染。
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